• 产品名称:一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及
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  • 发布时间: 2021-10-24
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  (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN109283788A (43)申请公布日 2019.01.29 (21)申请号 CN3.X (22)申请日 2018.10.11 (71)申请人 中国石油大学(华东) 地址 266580 山东省东营市东营区北一路 739 号 (72)发明人 纪佳馨;徐鹏飞;吴宝贵;李静 (74)专利代理机构 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 代理人 黄耀钧 (51)Int.CI 权利要求说明书 说明书 幅图 (54)发明名称 一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法 (57)摘要 本发明公开了一种用于旋转式近场光刻的 纳米图形加工系统及方法。首先在光刻头表面制 备用于聚束入射光的表面等离子体透镜,然后在 盘片基底表面溅射金属反射层,并在金属反射层 表面制备光刻胶感光层。利用硬盘飞行原理,使 光刻头与光刻胶盘片间形成稳定的 20nm 以下的飞 行间隙。利用金属反射膜层的反射补偿作用,改 善表面等离激元聚束光场的强度和分布特性,弥 补表面等离激元在光刻方向的能量衰减,从而提 高旋转式近场光刻系统的加工结构深宽比,并兼 具良好的陡直度,实现了高效率、高分辨率、低 成本的纳米加工。 法律状态 法律状态公告日 2019-01-29 2019-01-29 2019-05-21 法律状态信息 公开 公开 实质审查的生效 法律状态 公开 公开 实质审查的生效 权利要求说明书 一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看 说明书 一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法的说明书内容是....请下载后查看

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