• 产品名称:西安光机所新型干涉光谱成像技术研究取得重要
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  • 发布时间: 2021-04-23
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  面向宽掩盖、高区分率、高光谱区分率的请求,离轴三反加M-Z像面过问光谱成像本事可能有用处置大视场光学体例和大尺寸过问仪的本事瓶颈。M-Z过问仪安置正在体例会聚光道中,正在减小体例体积和重量的同时,能量使用率可能到达成像仪的极限;离轴三反光学体例则或许同时竣工长焦距与大视场,而且没有核心遮拦,通报函数高。

  但正在基于M-Z像面过问的光谱成像体例中,离轴全反射体例难以抵偿会聚光道中M-Z过问仪棱镜元件所引入的像差。为此,科研职员将校正抵偿体例行使到离轴三反体例中,打算并告捷研制了一种新型离轴三反成像光学体例,并针对离轴三反体例装调自正在度众,构造非对称性以及离轴体例离轴量须要无误丈量调剂等题目,处置了离轴非球面微应力装夹、众自正在度调剂构造办法、离轴三反体例高精度装调等众项本事难点,为高区分率、高光谱区分率光谱成像本事奠定了坚实根蒂,并落成了需要的本事储存,使西安光机所进步光谱成像本事到达了邦内领先水准。出处西安光学细密呆板探讨所)

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